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Apreo C
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全面實現納米或亞納米分辨性能,從納米顆粒,粉末,催化 劑和納米器件到塊狀磁性樣品等材料。
最有效的背散射電子探測始終可保證良好的材料襯度,即使 是以低電壓和小束流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行 TV 速率成像是也不例外。
無比靈活的探測器可將各個探測器分割提供的信息相結合, 讓用戶能夠獲得至關重要的對比或信號強度。
各種各樣的荷電緩解策略,包括樣品倉壓力最高為 500 Pa 的低真空模式,可實現任何樣品的成像。
卓越的分析平臺提供高電子束電流,而且束斑很小。倉室 支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析而優化的低真空系統。
樣品處理和導航極容易,具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。
通過高級用戶指導、預設和撤消功能為新用戶提 供專家級結果。
高真空模式下成像的羥磷灰石晶體的低能量 (1 keV) 二次電子圖像。
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發布時間:2021-02-23 11:37:04
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